施設について

エレクトロニクス先端融合研究所(EIIRIS)は、本学の強みである「エレクトロニクス基盤技術分野」（センサ・LSI、フォトニクスデバイス）と、それを用いて研究を展開する「先端的応用分野」（ライフサイエンス、医療、農業科学、環境、情報通信、ロボティクスなど）との新たな融合を目指した異分野融合研究拠点です。

本施設は、イオン注入装置、ステッパ露光装置、CVD装置、エッチング装置等の各種半導体プロセス装置から、光干渉膜厚計、ウエハプローバ、SEM、レーザー顕微鏡、顕微ラマン装置等の分析装置までを取り揃えており、CMOS LSI、センサ、MEMSなどのデバイス作製において、専属教職員によるサポートのもとで設計から製造、評価までを一貫して行うことが可能です。

また、本学では、EIIRISの共用機器を活用して、社会人に向けて「集積回路技術講習会」を毎年継続して実施しており、本施設は、学内だけでなく学外からも半導体プロセスのための研究・教育の場として広く活用されています。

詳しくは、EIIRISホームページをご参照ください。

施設・設備の利用に際して

EIIRISの施設・設備を利用するにあたっては、以下の点にご注意ください。

• 本施設は、共同利用施設であることを理解し、ルールを守ってご利用ください。
• 半導体プロセス装置の利用は危険を伴うことがありますので、安全に十分に配慮して、担当者の指示に従いご利用ください。
• トラブルのないよう、利用内容に関して事前によくご相談ください。
• 本施設の利用は学内の利用者を優先しております。学外の利用者のかたはご注意ください。
• 共同利用において、利用者の故意または過失による破損等が生じた場合は、弁償の対象となりますので十分にご注意ください。

そのほか、利用内容に応じた注意点等もありますので、詳しくはお問い合わせ時にご確認ください。