利用できる機器
機器の配置図
共用システム機器一覧
共同研究室5
- 1. 集束イオンビーム装置
- 2. 走査型電子顕微鏡
- 3. 卓上走査顕微鏡
- 4. デジタルマイクロスコープ
- 5. ナノ粒度分析装置
- 6. 高速イメージング顕微ラマン分光システム
- 7. PLラマン分光装置
共同研究室 バイオ実験室
- 8. 正立共焦点顕微鏡
LSI工場(VBL1F)
- 9. EB描画装置
- 10. i線ステッパ
- 11. i線用レジスト塗布・現像装置
- 12. 測長走査型電子顕微鏡
- 13. 酸化・アニール炉
- 14. LPCVD装置
- 15. イオン注入装置
- 16. マルチターゲットRF/DCスパッタ装置
- 17. AIスパッタ装置反応性イオンエッチング装置
- 18. レジスト塗布両面アライナ
- 19. Siエッチング装置
- 20. プラズマCVDレジストアッシング装置
- 21. マルチターゲットRFスパッタ装置
- 22. Si深掘りエッチング装置Deep-RIE
- 23. 反応性イオンエッチング装置
- 24. 反応性イオンエッチング装置(MEMS用)
- 25. Siウェハ用レーザーダイシング装置
- 26. 温度可変プローバ・計測器システム
- 27. 光干渉膜厚計
- 28. 集束イオンビーム加工装置
- 29. ワイヤーボンダー(Au)
[初版作成]2017.10.18/ [最終改訂]2018.10.09